Используется для удаления дисперсионного (липкого) слоя, остающегося после отвердевания геля в УФ аппарате, также используется для очищения гелевых кистей, протирания УФ ламп и рефлекторов внутри УФ аппаратов. Только для профессионального использования!
РЕКОМЕНДАЦИИ ПО ПРИМЕНЕНИЮ:
На ватный тампон нанести небольшое количество средства и тщательно протереть этим тампоном поверхность ногтя, удаляя липкий слой. Совместим с акриловой и гелевой технологией.